パターン付きウエハー

• Line&Space , Contact Hole
• I-Line, KrF , ArF , ArF液浸
• CMP TEST (Cu,　W,　STI,　ILD etc.)-754 , 854 , 454Mask等、各種SVTC　Mask対応
  
  （弊社はSVTCのアジア地区総代理店です。）
• Plasma Damage TEG

＊最小線幅32nm迄対応、マスク製作から対応可能です。

＊要打合せ。詳細ご相談ください。

Pattern Wafer　Products

• Cu CMP評価用ウエハー
• W CMP 評価用　ウエハー
• STI CMP 評価用　ウエハー
• TSV(Through Silicon Via) ウエハー
• Deep Si Etch (50 um) viaウエハー
• Double Patterning ウエハー

	サイズ	300mm
	構　造	Anneal/ Cu EP 7KA Fill / Cu seed 1K / TaN 250A / Etch 3K (100nm Trench) / TEOS 3K / Si

	サイズ	300mm
	構　造	W 3K 〜 8K Fill / Ti:150A / TiN:150A Etch 3K ～ 8K / (130nm Via) PE-TEOS 2K / Si

	サイズ	300mm
	構　造	HDP 6K Fill / Si etch 3.5K (130nm Trench) SiN 2K / Pad Ox 100A / Si

	サイズ	300mm
	構　造	EP Cu 60um Fill / Cu seed 2um / TaN 600A / PE-TEOS 6K / Si Via etch 50um / Si

	サイズ	300mm
	構　造	Si Via etch 50um / Si

	サイズ	300mm
	構　造	Etch(30nm Trench) 300A Poly Si +/- 5% 20A Sac Ox / S

＊上記以外の仕様も対応可能です。ご希望の仕様をご指定ください。