高品質で付加価値の高い製品を、ご提供いたします。
| 膜種分類 | 膜種 | 成膜方法 |
|---|---|---|
| Oxide | Th-SiO2 | Thermal |
| Low-Particle Th-SiO2* | Thermal | |
| PE-SiO2 | PE-CVD | |
| PE-TEOS | PE-CVD | |
| LP-CVD TEOS | PE-CVD | |
| HDP | PE-CVD | |
| USG | PE-CVD | |
| PSG | CVD | |
| BPSG | CVD | |
| RTO | Anneal | |
| Silicon | Doped / non Doped Poly | LP-CVD |
| Amorphous | PE-CVD | |
| Nitride | LP-CVD SIN | LP-CVD |
| PE-CVD SIN | PE-CVD | |
| Photo Resists |
I-Line | Coating |
| KrF | Coating | |
| ArF | Coating | |
| Low-K | BD | CVD |
| BDⅡX | CVD | |
| AURORA | CVD | |
| CORAL | CVD | |
| Metal | Ta , TaN | Spatter |
| Ti , TiN | Spatter | |
| W | Spatter CVD |
|
| Cr | Spatter | |
| Cu | Spatter, EP | |
| Al , Al-Cu , Al-Si | Spatter | |
| Pt | Spatter | |
| Ni | Spatter | |
| Ru | Spatter | |
| Pd | Spatter | |
| Au | Spatter | |
| Co | Spatter | |
| Etc | Spatter |
＊上記以外の膜種も対応可能です。ご希望の膜厚を指定ください。
Low Particle Thermal Oxide Wafer(低欠陥熱酸化膜ウエハー)
パーティクル・金属汚染をコントロールした最先端の酸化炉にて成膜した低欠陥熱酸化膜ウエハーをご提案いたします。
Atomic Layer Deposition(ALD膜）
次世代ゲート材料
- ALD High-Kゲート絶縁膜
ロジック…HfSiO, ZrSiO, etc
メモリー…HfO, ZrO, AlO, HfSiO, TiO, etc
- ALD 金属電極
ロジック…Ti, TiN, Ta, TaN, TiSiN, TaSiN,TaSiN, HfN, HfSiN,etc
メモリー…Ti, TiN, Ta, TaN, TiSiN, TaSiN,etc
＊上記以外の膜種も対応可能です。
Ion Implantation Wafer(イオン注入ウエハー）
- イオン種：B＋,BF2＋,P＋,As＋,In＋,等
- ドーズ量：1011～1015 ions/cm2
- 加速エネルギー：5Kev～4.6Mev
- RTA処理
